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大型ウエハ対応・原子間力顕微鏡の研究 : 第2報, 0.1nm分解能と25mm広域走査の両立
http://hdl.handle.net/10087/2844
http://hdl.handle.net/10087/284475f1a12c-ee3a-4e32-8d38-d82701c714b6
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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C72_1538.pdf (827.7 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2008-02-05 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 大型ウエハ対応・原子間力顕微鏡の研究 : 第2報, 0.1nm分解能と25mm広域走査の両立 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Atomic Force Microscope for Large Size Sample : 2nd Report, 0.1nm Resolution and 25mm-area Scanning | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Atomic Force Microscope for Large Size Sample : 2nd Report, 0.1nm Resolution and 25mm-area Scanning | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Atomic Force Microscopy | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Scanning Mechanism | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Piezoelectric Device | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Static Pressure Guide | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Friction Guide | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Semiconductor Wafer | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | AFM | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
村山, 健
× 村山, 健× 国友, 裕一× 森本, 高史× 保坂, 純男 |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | We have developed a new AFM (Atomic force microscopy) for semiconductor device evaluation with high resolution of 0.1nm and wide-area measuring function to 25mm area using two scanning mechanisms, a piezoelectric XY scanner of 10μm stroke combined with an on-axis optical microscope and an ultra-flat XY stage of 200mm stroke moving on a reference plane with a static pressure guide or a contact friction guide switched to non-pressure. We demonstrated three operations, high-resolution mode with the piezoelectric scanner on the friction guide condition, middle-area mode from 5μm to 1mm area with the static pressure guide and 25mm wide-area mode with the friction guide. Finally, an atomic step of 0.3nm height, CMP (Chemical Mechanical Polishing) samples with 2-10mm measurement area and the flatness accuracy of 30nm/25mm were measured in one AFM. | |||||
| 書誌情報 |
日本機械学會論文集. C編 巻 72, 号 717, p. 1538-1543, 発行日 2006-05-25 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0387-5024 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN00187463 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | 日本機械学会 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | 本文データは学協会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 日本機械学会 | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | Journal Article | |||||
| 異版である | ||||||
| 関連タイプ | isVersionOf | |||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | http://ci.nii.ac.jp/naid/110004738290/ | |||||
| 更新日 | ||||||
| 日付 | 2017-03-27 | |||||
| 日付タイプ | Created | |||||
