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  1. 50 工学研究科
  2. 5003 生産システム工学専攻
  3. 学術雑誌論文

チオフェンを原料とする硫黄ドープアモルファス炭素薄膜のCVD合成

http://hdl.handle.net/10087/5839
http://hdl.handle.net/10087/5839
f5805975-172d-4406-94cb-5126a78c593b
名前 / ファイル ライセンス アクション
NSK111_133.pdf NSK111_133.pdf (452.0 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2010-12-20
タイトル
タイトル チオフェンを原料とする硫黄ドープアモルファス炭素薄膜のCVD合成
タイトル
タイトル Photo-Catalytic and Photo-Conductive Properties of SiO_2/TiO_2 Multilayer Film Prepared by Vacuum-Deposition Method(<Special Issue>Ceramics Integration)
言語 en
言語
言語 jpn
その他のタイトル
その他のタイトル Photo-Catalytic and Photo-Conductive Properties of SiO_2/TiO_2 Multilayer Film Prepared by Vacuum-Deposition Method(<Special Issue>Ceramics Integration)
キーワード
主題Scheme Other
主題 Amorphous carbon thin films
キーワード
主題Scheme Other
主題 Sulfur doping
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thiophene
キーワード
主題Scheme Other
主題 Plasma CVD
キーワード
主題Scheme Other
主題 Self-bias method
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 平出, 孝夫

× 平出, 孝夫

8760

平出, 孝夫

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小野, 章夫

× 小野, 章夫

8761

小野, 章夫

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伏木, 徹

× 伏木, 徹

8762

伏木, 徹

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竹澤, 信隆

× 竹澤, 信隆

8763

竹澤, 信隆

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黒田, 真一

× 黒田, 真一

8764

黒田, 真一

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吉本, 護

× 吉本, 護

8765

吉本, 護

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山田, 秀雄

× 山田, 秀雄

8766

山田, 秀雄

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Amorphous carbon thin films containing sulfur were synthesized from thiophene (C_4H_4S) by the r.f. (13.56 MHz) plasma CVD. The r.f. power was applied intermittently to control the deposition temperature (T_d). While maintaining a constant r.f. power (200 W) and reactive pressure (13.3 Pa), we investigated the effect of T_d on the film chemical structures and properties: specifically microroughness, density, microhardness and internal stress. The deposition rate and microroughness of the films decreased with increasing T_d, while the film density, microhardness and internal stress increased with increasing T_d. X-ray photoelectron spectroscopic (XPS) analysis indicated that S/C ratio of the films remained constant and has no connection with T_d. XPS and Raman spectroscopic analyses showed that the films were composed of two kinds of microdomains with sp^3 and sp^2 bonds similar to the diamond-like carbon (DLC) film. Sulfur incorporation into the film significantly reduced the internal stress.
書誌情報 日本セラミックス協会学術論文誌 : Nippon Seramikkusu Kyokai gakujutsu ronbunshi

巻 111, 号 1290, p. 133-136, 発行日 2002-05-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 09145400
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10040326
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 日本セラミックス協会
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 Journal Article
更新日
日付 2017-03-27
日付タイプ Created
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