ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. 50 工学研究科
  2. 5006 電気電子工学専攻
  3. 学術雑誌論文

Properties of radio-frequency-sputter-deposited GaN films in a nitrogen/hydrogen mixed gas

http://hdl.handle.net/10087/2949
http://hdl.handle.net/10087/2949
57e0a6cc-88b7-4c94-8402-93d0203d1be3
名前 / ファイル ライセンス アクション
JApplPhys_97_093516.pdf JApplPhys_97_093516.pdf (137.0 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2008-02-29
タイトル
タイトル Properties of radio-frequency-sputter-deposited GaN films in a nitrogen/hydrogen mixed gas
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Miyazaki, Takayuki

× Miyazaki, Takayuki

WEKO 8798

Miyazaki, Takayuki

Search repository
Takada, Kouhei

× Takada, Kouhei

WEKO 8799

Takada, Kouhei

Search repository
Adachi, Sadao

× Adachi, Sadao

WEKO 8800

Adachi, Sadao

Search repository
Ohtsuka, Kohji

× Ohtsuka, Kohji

WEKO 8801

Ohtsuka, Kohji

Search repository
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 GaN films have been deposited by reactive sputtering in nitrogen gas at pressures from 0.08 to 2.70\nPa with and without the addition of hydrogen gas. X-ray diffraction (XRD), Fourier transform\ninfrared (FTIR), optical absorption, and photoluminescence (PL) spectroscopy have been used to\ncharacterize the sputter-deposited GaN films. The XRD pattern reveals that the GaN films deposited\nin nitrogen gas at pressures lower than 0.53 Pa are polycrystals with the (0001) texture (α-GaN),\nwhile those deposited at or above 1.07 Pa display mixed crystalline orientations or an\namorphous-like nature. The GaN:H films deposited in nitrogen/hydrogen mixed gas, on the other\nhand, show an amorphous or amorphous-like nature. The FTIR spectra indicate that the GaN:H\nfilms show peaks arising from hydrogen-related bonds at ~1000 and ~3200 cm−1, in addition to the\nGaN absorption band at ,555 cm−1. The optical absorption spectra at 300 K indicate the\nfundamental absorption edges at ~3.38 and ~3.7 eV for the highly oriented α-GaN and amorphous\nGaN:H films, respectively. PL emission has been observed from sputter-deposited a-GaN films at\ntemperatures below 100 K. The GaN:H films also show strong band-edge and donor-acceptor pair\nemissions. The PL emission in the GaN:H film may arise from crystalline GaN particles embedded\nin the amorphous GaN matrix.
書誌情報 Journal of Applied Physics

巻 97, 号 9, p. 093516-1-093516-7, 発行日 2005-05-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-8979
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 info:doi/10.1063/1.1888027
権利
権利情報 (C)2005 American Institute of Physics
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 American Institute of Physics
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 Journal Article
異版である
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ URI
関連識別子 http://jap.aip.org/
更新日
日付 2017-03-27
日付タイプ Created
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-06-19 12:58:43.160090
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3